采用微波等离子体CVD方法沉积的金刚石膜晶粒尺寸仅约0.2μm，表面非常平整，可无需抛光直接应用于红外波段，飞秒激光、RF-PECVD法等沉积技术也在不断进步，X射线光刻掩膜和窗口、红外光学器件涂层等金刚石膜及类金刚石膜光学涂层已经开始实用化。由于二者在硬度、弹性、摩擦、化学稳定性、透过率、抗损伤等方面具有良好的性能，可实现硅和锗增透，以及作为玻璃及硫化锌保护膜，在光学元件中具有良好的应用价值。