文章-世纪中文出版社

江雪峰1,2 欧阳琴1 刘大鹏1 陈友汜1 马洪波1 孙巍2 《化学研究前沿》 2018年3期

摘要:

木质素是自然界中含量最丰富的天然芳香族高分子,含有丰富的碳元素,是制备碳纤维的理想原料。但是,工业木质素的杂质含量普遍较高,不能满足碳纤维制备要求。为此,本文采用盐酸沉析、离心分离和酸洗的方式对某种国产工业木质素进行纯化处理,考察了盐酸用量及纯化次数对木质素灰分含量的影响,并采用GPC、FT-IR和DSC研究了木质素的分子量、化学结构和反应活性随纯化处理次数的变化规律。结果表明:随着纯化次数的增加,木质素的灰分含量大幅降低,反应活性显著提高;随着盐酸用量的增加,在一次提纯时,木质素的灰分含量先大幅降低,当浓盐酸与木质素的质量比大于0.6:1时,木质素的灰分含量趋于稳定;经四次纯化处理后,木质素的灰分含量降低至0.77%。

双屏液晶显示中光学胶影响分析下载：76 浏览：249

李军军1 吕国强1 苏凯1 王梓2 冯奇斌2 《光电子进展》 2020年5期

摘要:

为了克服液晶显示对比度不高的问题,将两层液晶屏通过光学胶绑定在一起,形成双层液晶显示,可以有效提高对比度。绑定光学胶不仅要将两层液晶屏牢固地粘接在一起,而且不能影响显示效果。利用有限元仿真软件和液晶光学仿真软件,分析了绑定光学胶厚度对大尺寸双层液晶显示屏的影响。针对165 cm的双层液晶显示屏的研究显示,当光学胶厚度处于0.15 mm到0.3 mm之间时,能够很好地保证双层显示屏之间的粘贴强度和光学特性。

C8-BTBT薄膜结晶形貌及OTFT器件性能研究下载：32 浏览：443

黄玲玲1，2 陈幸福1，2 胡鹏1，2 李博1，2 王向华1，2 胡俊涛1，2 《光电子进展》 2020年2期

摘要:

以p型共轭有机小分子2,7二辛基[1]苯并噻吩并[3,2-b]苯并噻吩(C8-BTBT)作为底栅顶接触有机薄膜晶体管(OTFT)的有源层,采用浸渍提拉法、喷墨打印法和真空蒸镀法三种制备工艺,探究半导体薄膜载流子迁移率与结晶形貌的关系,发现不同工艺下有机小分子呈现出不同的生长行为和结晶情况,在很大程度上决定了OTFT器件性能的优劣;此外,通过XRD分析研究了退火处理对C8-BTBT结晶的影响。结果表明,真空蒸镀制备的薄膜具有更高的结晶度、衬底覆盖率高,并且呈现出SK(Stranski-Krastanov)模式的结晶生长特征,相应器件中陷阱密度最低,迁移率高达5.44 cm2·V-1·s-1,开关比超过106;且退火处理会严重破坏C8-BTBT薄膜的结晶。因此,控制半导体层的生长行为,提升半导体层的覆盖率和结晶度是制备高性能共轭小分子OTFT器件的有效途径。

平面波导系统中线性光栅的设计与分析下载：69 浏览：399

丁闪闪1 冯奇斌2 许沭华3 俞良3 吕国强4 《光电子进展》 2019年1期

摘要:

针对平面波导系统中光能利用率低、光栅制备成本高且工艺复杂的问题,设计大周期、高衍射效率的光栅结构,从而提高系统光效、节约成本。首先,提出以梯形光栅作为最初面型进行标量理论计算,以梯形的角度、占空比、高度为变量,得出光栅面型为直角三角形时,-1级有较高衍射效率。随后分析了设计的直角三角光栅和两种常见的线性光栅的衍射效率,并且讨论了深度加工误差、入射光发散角对三种面型光栅衍射效率的影响。仿真结果显示:周期为3μm的直角三角光栅,入射光垂直入射时-1级衍射效率达81%,与小周期倾斜光栅的衍射效率相差较小,但考虑到深度加工误差和入射光的发散角度对三种面型光栅衍射效率的影响时,直角三角光栅则具有明显优势。设计的直角三角光栅在具有较大周期时,仍可实现较高衍射效率。

DOE二阶量化优化算法下载：58 浏览：434

刘欣1 吕国强2 李军军2 冯奇斌3 《光电子进展》 2019年1期

摘要:

分析了二阶量化产生的误差,提出了一种基于模拟退火算法的优化算法,对二阶量化的相位数据进行优化,改善其输出光场,减小二阶量化带来的误差。仿真结果表明:优化过后DOE输出光场的不均匀性由41.92%降至23.18%,误差函数由28.74%降至20.47%,可见提出的算法在减小DOE二阶量化误差方面具有一定的应用价值。

不同光学膜组合对TFT-LCD显示性能影响的研究下载：79 浏览：392

桂诗信1，2，3 袁烨1，2，3 李正荣1，2，3 杨新军1，2，3 张青1，2，3 《光电子进展》 2018年6期

摘要:

介绍了光学膜组中各种光学膜的特性及功能,并通过实验研究了不同光学膜组合对TFT液晶显示性能的影响,为液晶显示器光学膜组的设计提供了重要的技术支持。

狭缝式化学气相沉积制备SiC涂层及其抗氧化性能研究下载：64 浏览：457

廖超前1,2 王昊3 齐绍忠1 任兵1 刘桦3 何雨恬3 黄东1,4 张明瑜4 《材料科学研究》 2019年7期

摘要:

为了改善SiC涂层试样的均匀性,同时提高制备效率,利用石墨材料为沉积基体,通过狭缝式化学气相沉积法制备SiC涂层,同时分析并研究了SiC涂层的微观结构和抗氧化性能.研究结果表明:与普通化学气相沉积工艺相比,狭缝式化学气相沉积工艺沉积速率更大,沉积1 h后涂层厚度为17.3μm；狭缝式化学气相沉积工艺制备的SiC涂层晶粒更细,涂层均致密无缺陷,与基体相容性较好.狭缝式化学气相沉积的SiC涂层在1500℃时下具有较好的氧化防护能力,在静态空气中恒温氧化24 h后,氧化失重仅为4.01 mg/cm2.狭缝式化学气相沉积的SiC涂层表面裂纹的尺寸很小,在氧化过程中更容易被氧化产生的SiO2玻璃态物质封填,而发生自愈合效应,从而使涂层具有良好抗氧化性能.

HVAF和HVOF制备的WC-10Co-4Cr涂层性能研究下载：71 浏览：468

陈焕涛谭僖朱晖朝张忠诚黄健张小锋《材料科学研究》 2019年7期

摘要:

为了提高新一代锂电池辊轧的轧制力,选取适合的WC-10Co-4Cr涂层制备工艺.采用HVOF和HVAF两种方法制备WC-10Co-4Cr涂层,并对涂层的微观组织、杯突性能、弯曲性能、结合强度、显微硬度等性能进行了研究,同时分析了影响涂层耐磨性的主要原因.实验结果得出:HVAF喷涂的WC-10Co-4Cr涂层杯突随基本变形能力比HVOF强；HVOF和HVAF喷涂的WC-10Co-4Cr涂层弯曲折弯韧性好,均无涂层剥落；HVAF制备的WC-10Co-4Cr涂层孔隙率小于HVOF制备的,且在显微硬度Hv、结合强度、耐磨性的性能方面优于HVOF.因此,采用HVAF的工艺制备WC-10Co-4Cr涂层更有利于提高新一代锂电池辊轧的轧制力.

基于ITO图案化的LCD低温加热设计下载：26 浏览：437

张大伟1，2，3，4 赵小珍2，3，4 屈军1 袁扬胜1 彭继2，3，4 《光电子进展》 2018年3期

摘要:

为了改善机载LCD在低温加热过程中出现的不均匀、四角发蓝现象,提出了一种基于ITO图案化的加热器设计方法。首先通过Pro/E软件设计ITO图形,接着利用ANSYS Workbench对屏组件进行有限元热仿真,得到了机载LCD的低温加热功耗以及稳态温度分布图,最后根据仿真数据制作LCD,并进行样品试验。结果表明,对于15.24cm的LCD,在相同的功率下,图案化的加热器加热更加均匀,且四角发蓝现象得到明显的改善。

等离子喷涂-物理气相沉积稀土高温功能涂层研究进展下载：75 浏览：480

邓春明1 肖娟 2曹家旭1,3 张小锋1 牛少鹏1 毛杰1 邓子谦1 宋琛1 《材料科学研究》 2019年6期

摘要:

稀土素有工业"维生素"之称,是重要的战略性物资,其在改进材料性能,尤其是高温功能涂层性能方面有着不可替代的作用.等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)技术通过粉末材料和工艺调整,可实现材料的气、液、固多相沉积,从而获得不同结构的功能涂层,如柱状热障涂层、高致密电解质薄层等,是当前表面工程的研究热点.总结了广东省新材料研究在稀土高温功能涂层材料以及采用PS-PVD沉积热障涂层、环境障涂层、混合导体透氧膜等方面的研究进展,指出稀土高温功能涂层材料在高端武器装备、新能源等中的重要性,强调我国应该加强精加工、投入开发高品质稀土高温功能涂层材料.

反应物浓度诱导CVD SiC结构的转变下载：77 浏览：489

黄东1,2 王昊3 何雨恬3 王秀连3 刘桦3 邓畅光3 林松盛3 张明瑜2 《材料科学研究》 2019年6期

摘要:

利用低密度的C/C复合材料为沉积基体,通过化学气相沉积法制备气相生长SiC,分析并研究了不同沉积位置和反应物浓度下气相生长SiC的微观形貌和物相组成.结果表明,随着反应物气体浓度的降低,多孔C/C复合材料基体上气相生长的SiC的微观结构呈区域性变化,SiC薄膜依次向SiC薄膜和颗粒、SiC短棒、SiC纳米线转变.探讨了不同反应物浓度气氛中过饱和度诱导原子迁移和气相分子吸附的过程,并提出一个SiC的生长模型.

褪除液浓度及pH值对电化学法褪除碳化钨-镍涂层工艺的影响下载：77 浏览：491

康忠明朱霞高陈志坤李福球《材料科学研究》 2019年4期

摘要:

对于返修零件的残余涂层及生产中不合格的碳化钨-镍涂层,必须先去除,才能重新喷涂.为有效褪除涂层,又不破坏基体,采用电化学法褪除45号钢表面的碳化钨-镍涂层,通过研究褪除液浓度和pH值对涂层褪除速率及对基体腐蚀情况的影响,确定最优pH值为11～12,褪除液（主要成分酒石酸钾钠和碳酸钠）质量浓度为0.25 kg/L,电流密度为6 A/dm2.采用此电化学工艺可有效褪除钢基体表面的碳化钨-镍涂层,也不会对钢基体造成影响.

小型绕线功率电感磁芯材料及其表面金属化工艺研究现状下载：84 浏览：489

崔骏1 蔡畅1 黄裕坤1 李洪2 林松盛2 《材料科学研究》 2019年3期

摘要:

小型绕线功率电感的主要结构包括磁芯和线圈.目前市场上主要使用镍锌材料和合金材料作为磁芯的主要材料,合金材料作为近年新开发的材料,在各方面性能上有明显的优势.随着合金材料技术的逐渐完善,合金材料将逐渐取代镍锌材料.电极金属化是小型绕线功率电感制作工艺中的重要环节,本文介绍了目前市场上主流的两种电极金属化工艺,比较了其膜系结构以及工艺流程的差异,其中真空镀工艺比电镀工艺在薄膜综合性能及环保要求上具有一定的优势,是未来主流磁芯电极表面金属化工艺.

不同粘结层材料的PS-PVD热障涂层热震性能下载：80 浏览：487

毛杰1 刘飞1,2 邓子谦1 邓春明1 刘敏1 曾德长2 梁兴华3 《材料科学研究》 2019年3期

摘要:

为探索不同粘结层材料对等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD） YSZ陶瓷层的热震性能的影响,采用PS-PVD工艺在DZ40M高温合金上制备了NiCoCrAlYTa和NiCrAlY两种不同的金属粘结层及YSZ陶瓷层,用SEM及XRD等方法表征两种粘结层表面沉积的YSZ陶瓷层的形貌结构、显微硬度及物相,研究了两种涂层的1100℃水淬热震性能及失效模式.结果表明:PS-PVD制备的NiCoCrAlYTa和NiCrAlY两种粘结层均非常致密,陶瓷层均为典型羽毛型柱状结构；NiCoCrAlYTa-7YSZ和NiCrAlY-7YSZ两种羽柱状陶瓷层的孔隙率分别为16.1%和16.5%,显微硬度HV0.025分别为615.8和683.6；陶瓷层的形貌结构及孔隙率、硬度等基本性能,对粘结层成份差异不敏感.1100℃水淬试验结果表明,NiCrAlY-7YSZ涂层的抗热震性能优于NiCoCrAlYTa-7YSZ涂层.失效模式是涂层在频繁的低温-高温热循环中羽柱状陶瓷层内部裂纹萌生和扩展,以及表面花菜头先剥落形成点蚀坑.随着热震次数增加,更多的点蚀坑随机出现并扩大,进而相连后形成大面积剥落区还原.

不同碳基体CVD SiC涂层的制备及其微观结构研究下载：97 浏览：485

王昊1 黄东2,3 何雨恬1 王秀连1 邓畅光1 林松盛1 《材料科学研究》 2019年3期

摘要:

分别以高纯石墨、细颗粒石墨及低密度的C/C复合材料为基体,以MTS为SiC的先驱体原料,采用化学气相沉积工艺制备SiC涂层.通过扫描电镜(SEM)观察CVD SiC涂层的微观形貌,利用X射线衍射仪(XRD)分析其晶体结构.研究发现,在不同沉积基体上沉积的SiC晶体形貌不同.以高纯石墨为基体的试样表面基本不存在SiC晶须的生长特征；以细颗粒石墨为基体的试样的表面发现了SiC晶须的生长特征,且基体内部的SiC晶体具有一定的CVI特征,即靠近基体内部沉积的SiC晶体逐渐由SiC晶须变为SiC纳米线；以C/C复合材料为基体的试样内部和表面沉积的SiC晶体表现出多元化的形貌,以层状SiC晶体和SiC晶须为主,主要是由基体材料微观结构的多元化而导致沉积的微区气氛有所不同造成的.

绕线片式电感表面金属化研究进展下载：86 浏览：495

李洪1 林松盛1 石倩1 韦春贝1 崔骏2 蔡畅2 黄裕坤2 《材料科学研究》 2019年1期

摘要:

：随着信息通信技术快速发展,绕线片式电感在3C电子行业、智能装备、航空航天、汽车能源等领域的市场需求量迅速增长,同时朝着小型化方向发展.金属化作为绕线片式电感制造过程中关键工序,其质量直接影响到电感的性能.本文针对绕线片式电感表面金属化这一关键工艺过程,介绍了国内外的相关研究进展,为绕线片式电感持续发展提供一定的信息支撑.

抗冲蚀磨损涂层的研究及应用进展下载：87 浏览：493

林松盛周克崧代明江《材料科学研究》 2018年7期

摘要:

随着技术的发展,传统的结构材料难以满足抗冲蚀磨损的使用要求,抗冲蚀磨损防护涂层是有效提高装备和材料使用寿命的有效途径之一.概括介绍了抗冲蚀磨损涂层的制备方法,主要包括涂覆、电镀、热喷涂、激光熔覆和气相沉积技术等,以及各种方法所制备的抗冲蚀磨损涂层体系及特点.重点阐述了利用物理气相沉积技术所制备的抗冲蚀磨损涂层的体系,主要包括二元、多元涂层及多层复合涂层,特别对多层复合涂层在抗冲蚀磨损防护方面的优势进行分析,最后系统地介绍了国际上物理气相沉积抗冲蚀涂层的研制进展及应用情况.

WC-10Co-4Cr对等离子喷涂Mo涂层性能的影响下载：85 浏览：487

朱霞高康忠明戴红亮朱晖朝张忠诚《材料科学研究》 2018年5期

摘要:

为进一步提高Mo涂层耐磨性能,采用等离子喷涂方法在A3钢基体上成功制备了WC-10Co-4Cr增强的Mo基复合涂层,并对涂层的微观组织、物相组成、氧含量、表面硬度、涂层结合强度以及浸油摩擦性能进行了研究.结果表明:涂层致密、孔隙率低,WC-10Co-4Cr呈条状形态均匀分布在Mo涂层中；由于受到WC-10Co-4Cr粒子的"夯实"作用,涂层结合强度提高,但浸油摩擦系数略有增大.

轰击电压对钕铁硼表面蒸发镀铝膜层耐腐蚀性能的影响下载：97 浏览：502

苏一凡石倩林松盛宋可为胡芳韦春贝李洪代明江《材料科学研究》 2018年4期

摘要:

为提高钕铁硼磁体的耐腐蚀性能,采用离子辅助蒸发镀技术在其表面沉积Al防护膜层.试验中用扫描电子显微镜（SEM）观察膜层的表面及截面形貌,通过电化学方法及中性盐雾试验检测膜层的腐蚀性能,通过拉伸试验评价膜层与基体的结合强度,以研究轰击电压对膜层结构和性能的影响.结果表明,在轰击电压0-1500V下沉积Al膜层,随着轰击电压的上升,Al膜层的晶粒先减小后增大,在-1200V下制备的Al膜层的晶粒最细小；随着轰击电压的上升,Al膜层的耐盐雾腐蚀时间增加,自腐蚀电流密度下降低.在-1500V下制备的Al膜层的耐盐雾腐蚀时间可达72h,自腐蚀电流密度可达1.203μA·cm-2,具有最好的耐腐蚀性能.施加轰击电压可以提高膜基的结合强度及耐盐雾腐蚀性能.

	在线客服
	客服电话：400-188-5008
	客服邮箱：service@ccnpub.com
	投诉举报：feedback@ccnpub.com

	在线客服：：点击联系客服
	联系电话：：400-188-5008
	客服邮箱：：service@ccnpub.com
	投诉举报：：feedback@ccnpub.com