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TiN薄膜制备方法、性能及其在OLED方面应用的研究
DOI:
,
PDF
,
下载:
72
浏览: 394
作者:
张阳1,2 吕军锋3 杨建兵1,2 吴远武1,2 刘腾飞1,2
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作者单位:
1.中国电子科技集团公司第五十五研究所;2.国家平板显示工程技术研究中心;3.西安北方光电股份有限公司
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关键词:
氮化钛;有机电致发光;电极
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摘要:
基于磁控溅射法制备用于OLED器件阳极的TiNx薄膜电极。研究了N2流量和溅射功率对TiNx薄膜电阻率和反射率的影响。采用四探针、光学光度计、SEM等测试手段对TiNx薄膜进行了表征。结果表明,TiNx薄膜电阻率为35.6μΩ·cm时性能最佳,制作的OLED器件在5V电压下亮度可到22 757cd/m2。
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