系统地研究了纳米粒子在硅芯片表面的各种附着力,如范德瓦耳斯力、塑性形变吸附力、毛细现象凝聚力、静电力和重力附加力,以及高速流体对它的拖动力和提拉力,并简单计算了在各种情况下这些力的大小.介绍了干法清除纳米污染物的几种新方法,如超临界流体清除法、高速气凝胶清除法、激光清除法、气相化学清除法和光化学清除法。